随着电子制程的快速生长，半导体芯片的事情频率越来越高，尺寸越来越小，集成度越来越高，半导体芯片封装洗濯越来越受到重视，洗濯的可靠性要求也越来越高
。

在半导体器件的封装历程中，焊剂和锡膏将被用作焊接配件
。这些焊接质料在焊接历程中或多或少会爆发残留物，在制造历程中也会受到一些污染物的污染，如指纹、汗液和灰尘
。在空气氧化和水分的作用下，外貌的焊剂残留物和污染物容易侵蚀器件，造成不可逆的损坏，影响器件的稳固性甚至失效
。

为了包管半导体器件的质量和高可靠性，封装历程中必需引入洗濯工艺和洗濯剂
。

现在，半导体器件封装行业主要使用碱性水基洗濯和中性水基洗濯剂
。

半导体封装和焊接辅助质料的残留物主要是松香和有机酸
。松香和有机酸均含有羧基，可与碱性洗濯剂中的碱性因素皂化形成有机盐
。因此碱性洗濯剂对半导体器件的助焊剂残留有很好的洗濯效果
。

然而，随着半导体的生长和特殊功效的需求，一些器件是很是懦弱的功效质料组装而成的，如铝、铜、铂和镍等敏感金属，墨水字符和特殊标签
。这些敏感金属和页数功效质料在碱性情形中容易氧化、变色、膨胀、变形和脱落，这就大大限制了碱性水基洗濯剂在半导体封装洗濯行业的普遍应用
。

中性水基洗濯剂主要通过外貌活性剂对残留物的渗透和剥离作用，促使残留物从半导体器件外貌脱落，从而抵达洗濯的目的
。中性水基洗濯剂是中性pH值，与铜、铝、镍等敏感金属、特殊功效质料和油墨特征具有优异的兼容性
。碱性水基洗濯剂和中性水基洗濯剂的洗濯机理差别，最终洗濯效果也差别
。一样平常来说，碱性水基洗濯剂比中性水基洗濯剂具有更强的洗濯能力，中性水基洗濯剂比碱性水基洗濯剂具有更高的兼容性
。半导体封装洗濯所使用的特定洗濯剂需要凭证被洗濯工具的特征举行选择
。

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