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水基洗濯剂在摄像模组指纹模组洗濯中的应用

文章要害词导读：水基洗濯剂、摄像模组洗濯指纹模组洗濯、PCBA线路板洗濯

一、摄像头模组的应用领域

二、摄像头模组的结构

摄像头模组主要由镜头、传感器Sensor、后端图像处置惩罚芯片、软板四个部分组成。模组是影像捕获至关主要的电子器件，器件的清洁决议了模组使用的效果。在生产装置历程中对元件清洁方面的要求很高。

三、摄像头模组生长的效果特点

1.感知与处置惩罚的信号越发微弱与迅速。这就要求更小的配景“噪声”，更为清洁的PCB；

2.事情频率更高，带宽更宽。也就要求电路情形的更高的一致性，更少的引起滋扰的异物；

3.更轻、更小的元件，如0201以至更小的chip元件的引入<.li>

4.更高的组装密度，如元件间距小于0.2mm;

5.结构差别、焊点洗濯部位隐藏的新型器件如：microBGAs、Flip-Chips等的引入

6.更高的耐（电）压趋势

7.更卑劣的事情情形的顺应性等等

四、响应洗濯工艺要求

1、在洗濯剂方面的要求

a、选择与使用焊剂匹配的洗濯剂

b、洗濯剂能顺应差别情形，不会因生产工艺细小的改变而无法顺应

c、要求洗濯剂粘度低，流动性好，以顺应微细间隙部分的洗濯

d、洗濯剂提供商有足够的手艺储备，能提供强盛的手艺支持

e、低本钱

2、在工艺和设惫亓要求

a、胜任高精、高密、组装有microBGAs、Flip-Chips等高新元器件的高清洁洗濯

b、无毒、低毒、防火、防爆

c、溶剂内循环，低排污

d、参数自控，特殊是清洁度自控

3、相关于古板溶剂洗濯剂，水基洗濯剂体现在以下几个方面：

a、使用清静，无闪点；

b、无毒，对人体危害；

洗濯寿命长，相对本钱低；

c、能彻底有用去除州残留物，知足高精、高密、高清洁洗濯要求；

残留物如：免洗锡膏残留洗濯、助焊剂残留洗濯、极性污染物、非极性污染物、离子污染物、灰尘、指模、油污，以及溶剂洗濯剂无法去除的金属氧化层（见图1图2）。

五、环保洗濯工艺

高效、高规格、环保清静的水基洗濯工艺是最理想的选择，也是未来洗濯业的生长偏向和必经之路。