凭证电子制造业恒久以来的品质管控数据统计效果来看，整个生产制造历程中，约有50%~70%的品质不良，都是由产品被污染所致。早在上世纪七十年月，电子制造业就有了专门针对金属及其离子污染的“ROSE——电阻率的溶剂萃取法”检测标准。

在电子产品制程中，污染物是种种外貌沉积物或杂质以及被外貌吸附或吸收的一种能使其性能降级的物质。这些污染物首先会降低电子产品工艺良品率，在一个污染情形中制成的电子产品会引起多种问题。污染会改变电子产品的尺寸，改变外貌的清洁度，和造成有凹痕的外貌等。

洗濯作业是现在去除产品污染唯一有用方法，因此从半导体芯片制造、封装，到后面的PCAB封装环节，险些每完成一道加工工序，都紧接着会有一道洗濯作业。

现在洗濯办法数目是芯片制造工艺办法占比最大的工序，约占所有芯片制造工序办法的30%以上。陪同半导体制造手艺节点的前进，洗濯工序的数目和主要性将继续提高。在半导体芯片工艺手艺节点进入28nm、14nm以及更先进品级后，工艺流程的延伸且越趋重大，产线制品率也会随之下降。

电子产品制程污染物主要有以下几种：

造成这种征象的一个缘故原由就是先进制程对杂质污染物的敏感度更高，小尺寸污染物的高效洗濯更难题。解决的要领主要是增添洗濯办法，以及接纳洗濯效率更高的水基型洗濯手艺。每个晶片在整个制造历程中需要甚至凌驾200道洗濯办法，晶圆洗濯变得越发重大、主要及富有挑战性。

现实上为了包管产品的良率及性能，在电子产品制造历程中需将外貌的种种污染物控制在工艺要求的规模之内。除制造历程都必需在严酷控制的净化情形中开展外，同时还需要评估在举行每一步工序前产品外貌特征是否知足该工序的要求。现阶段，芯片手艺节点一直提升，从55nm、40nm、28nm至14nm、7nm及以下，电子产品外貌污染物的控制要求越来越高，在功效性加工工序前都需要一步洗濯工序。

到了后摩尔时代，制造手艺关于情形气氛的要求越来越严，会污染特种电子气体和电子化学品的溶剂型洗濯手艺快速镌汰，与自然情形更亲和的水基型洗濯手艺成为了行业主流。

在所有电子电路产品生产制程的品质管控历程中，最怕就是离子污染改变产品的电性能，造成产品的总体性能下降及产品可靠性不达标，导致返事情业增添或产品直接报废。如芯片和电池生产历程中，由于离子污染造成的泄电、短路、容值飘移等致命缺陷。因此针对离子污染物的水基洗濯手艺，是所有洗濯作业的必不可少的环节之一。